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SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 |
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Descripción | |
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 Electrónica, diseño y componentes
Optoelectrónica
Micro y nanotecnologías
Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo
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Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras |
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Profesional | |
anual |
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| Localización(es) |
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