SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

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 Electrónica, diseño y componentes   Optoelectrónica   Micro y nanotecnologías   Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo  Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras
Profesional anual

Próximas fechas

del 29 de sept. al 04 de oct. de 2024  > en  Monterey, CA (USA - América)  > Monterey Conference Center
en sept. de 2025 (?)  > en  Monterey, CA (USA - América)  > Monterey Conference Center
en sept. de 2026 (?)  > en  Monterey, CA (USA - América)  > Monterey Conference Center
¡Atención! Todas las fechas están sujetas a cambios. Póngase en contacto con el organizador antes de emprender cualquier viaje.

Localización(es)

Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA

 +1 (831) 646-3770
 +1 (831) 646-3777
 http://www.montereyconferencecenter.com
Organizador(es)

SPIE  (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA
 +1 (360) 676-3290
 +1 (360) 647-1445
 http://www.spie.org
 customerservice@spie.org

Más información

 http://spie.org/conferences-and-exhibitions
 spie@spie.org
 melissaf@spie.org (solo expositores)


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(Actualización: 30 de nov. de 2023)