SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 in english

Descripción

Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras

Industrias relacionadas

Electrónica, diseño y componentes Optoelectrónica Micro y nanotecnologías Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo

Audiencia

Profesional

Periodicidad

anual

Fecha	Ciudad	Ubicación
del 29 de sept. al 04 de oct. de 2024	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. de 2025 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center

¡Atención! Todas las fechas están sujetas a cambios. Póngase en contacto con el organizador antes de emprender cualquier viaje.

Ubicación(es)

Ubicación para SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)

Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA

+1 (831) 646-3770

+1 (831) 646-3777

Sitio Web E-mail

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Organizador(es)

Todos los eventos del organizador de SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

SPIE (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA

+1 (360) 676-3290

+1 (360) 647-1445

Sitio Web E-mail

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