SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 in english

Descripción

Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras

Industrias relacionadas

Electrónica, diseño y componentes Optoelectrónica Micro y nanotecnologías Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo

Audiencia

Profesional

Periodicidad

anual

Fecha	Ciudad	Ubicación
21-25 de sept. de 2025	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. de 2026 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center

¡Atención! Todas las fechas están sujetas a cambios. Póngase en contacto con el organizador antes de emprender cualquier viaje.

Ubicación(es)

Ubicación para SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)

Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA

+1 (831) 646-3770

+1 (831) 646-3777

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Organizador(es)

Todos los eventos del organizador de SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

SPIE (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA

+1 (360) 676-3290

+1 (360) 647-1445

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