SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 in english

Descripción

Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras

Industrias relacionadas

Electrónica, diseño y componentes Optoelectrónica Micro y nanotecnologías Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo

Audiencia

Profesional

Periodicidad

anual

Fecha	Ciudad	Ubicación
del 29 de sept. al 04 de oct. de 2024	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. de 2025 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. de 2026 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center