SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 in english

Description

Salon et conférence des technologies de photogravure. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography réunit les acheteurs et les principaux fournisseurs de composants, logiciels et équipements de fabrication pour l'industrie des masques

Secteurs d'activité

Électronique Optoélectronique Micro et Nanotechnologies Sciences de l'ingénieur - Recherche et développement

Public

Professionnel

Périodicité

annuel

Date	Ville	Lieu
du 29 sept. au 04 oct. 2024	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. 2025 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. 2026 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center