SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025

Activités Description Public Périod.
 Électronique   Optoélectronique   Micro et Nanotechnologies   Sciences de l'ingénieur - Recherche et développement  Salon et conférence des technologies de photogravure. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography réunit les acheteurs et les principaux fournisseurs de composants, logiciels et équipements de fabrication pour l'industrie des masques
 Professionnel annuel

Prochaines dates
du 21 au 25 sept. 2025  > à  Monterey, CA (USA - Amérique)  > Monterey Conference Center
en sept. 2026 (?)  > à  Monterey, CA (USA - Amérique)  > Monterey Conference Center
Prenez garde ! Toutes les dates sont sujettes à changement. Prenez contact avec l'organisateur avant d'entreprendre tout déplacement.

Lieu
Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA
 +1 (831) 646-3770
 +1 (831) 646-3777
 http://www.montereyconferencecenter.com
Organisateurs
SPIE  (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA
 +1 (360) 676-3290
 +1 (360) 647-1445
 http://www.spie.org
 customerservice@spie.org

Plus d'information
 http://spie.org/conferences-and-exhibitions
 spie@spie.org
 melissaf@spie.org (exposants seulement)


EventsEye
Agenda mondial des salons professionnels
https://www.eventseye.com

(Mise à jour: 31 déc. 2024)