SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2025 Activités Description Public Périod.  Électronique   Optoélectronique   Micro et Nanotechnologies   Sciences de l'ingénieur - Recherche et développement  Salon et conférence des technologies de photogravure. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography réunit les acheteurs et les principaux fournisseurs de composants, logiciels et équipements de fabrication pour l'industrie des masques Professionnel annuel Prochaines dates du 29 sept. au 04 oct. 2024  > à  Monterey, CA (USA - Amérique)  > Monterey Conference Center en sept. 2025 (?)  > à  Monterey, CA (USA - Amérique)  > Monterey Conference Center en sept. 2026 (?)  > à  Monterey, CA (USA - Amérique)  > Monterey Conference Center Prenez garde ! Toutes les dates sont sujettes à changement. Prenez contact avec l'organisateur avant d'entreprendre tout déplacement. Lieu Monterey Conference Center One Portola Plaza Monterey, CA 93940 USA  +1 (831) 646-3770  +1 (831) 646-3777  http://www.montereyconferencecenter.com Organisateurs SPIE  (International Society for Optical Engineering) PO Box 10 1000 20th St. Bellingham WA 98225-6705 USA  +1 (360) 676-3290  +1 (360) 647-1445  http://www.spie.org  customerservice@spie.org Plus d'information  http://spie.org/conferences-and-exhibitions  spie@spie.org  melissaf@spie.org (exposants seulement)

EventsEye
Agenda mondial des salons professionnels
https://www.eventseye.com

(Mise à jour: 30 nov. 2023)